這款薄膜厚度均勻性測量儀采用光譜反射計技術測量整個樣品薄膜面積的薄膜厚度和薄膜折射率等參數，獲得整面薄膜厚度分布和薄膜厚度均勻性參數。
這款薄膜厚度均勻性測量儀具有較長工作距離，工作距離可調，超大樣品臺，可選光源等特點。
薄膜厚度均勻性測量儀特點
易于安裝
軟件基于Windows系統，方便使用
*光學設計，良好系統表現
陣列光譜探測器保證快速測量
測量薄膜厚度和折射率高達5層
可測量反射，透射和吸收光譜
可用于實時在線的薄膜厚度和折射率測量
具有齊全的材料光譜舍數據庫
可升級到顯微分光光度計
適合不同襯底和不同薄膜厚度測量
薄膜厚度均勻性測量儀參數
波長范圍：250-1050nm
光點大小：500um - 5mm
樣品大小：300mm 直徑
襯底厚度： 高達50um
測量薄膜厚度范圍： 10nm -50um
重復定位精度：1um
測量時間：最小2ms
精度：0.5%
重復精度 lt;1A
薄膜厚度均勻性測量儀應用
半導體制造
液晶顯示屏測量
刑偵
生物膜測量
礦石地質分析
制藥醫學分析
光學鍍膜測量
功能薄膜MEMS測量
太陽能電池薄膜測量
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