在基本的水顯影劑中可顯影的正性光刻膠：
厚度范圍： 0.7-3微米 / 3-25微米
表現：
無需HMDS或助粘劑
有效抑制反射刻痕
消除了敏化劑升華，防止了烘烤排氣管線的堵塞
出色的解析能力。
曝光時間短。
開發時間短。
優異的耐溫性。
在RR4中易于清除抗蝕劑。
室溫下儲存期超過1年。
應用范圍：
蝕刻，離子注入，金屬電鍍，用于制造以下產品：
集成電路
微機電系統
平板顯示器
高密度包裝
適用于干/濕蝕刻，電鍍或離子注入
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在基本的水顯影劑中可顯影的正性光刻膠：厚度范圍： 0.7-3微米/3-25微米表現： 無需HMDS或助粘劑有效抑制反射刻痕消除了敏化劑升華，防止了烘烤排氣管線的堵塞出色的解析能力
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