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可在基本的水顯影劑中顯影的負性光刻膠

特性
厚度范圍 lt;0.1-120.0 µm
對波長小于380nm的靈敏度
優于表面拓撲的線寬控制
直側壁適合任何膜厚
能夠在單次旋涂中涂覆100 µm厚的膜
由于應用了150°C的軟烘烤，烘烤時間更短（對于厚膜至關重要）
出色的光速，可提高曝光量
有助于提高RIE中的功率密度，從而提高蝕刻速率和蝕刻產量
消除使用粘合促進劑


RIE /離子耐高溫 厚度 濕法蝕刻 厚度
增強附著力

NR7-250P 0.2um-0.6um NR9-250P 0.2um-0.6um
NR7-1000P 0.7um-2.1um NR9-1000P 0.7um-2.1um
NR7-1500P 1.1um-3.1um NR9-1500P 1.1um-3.1um
NR7-3000P 2.1um-6.3um NR9-3000P 2.1um-6.3um
NR7-6000P 5.0um-12.2um NR9-6000P 5.0um-12.2um
NR5-8000 5.8um-100.0um NR9-8000P 6.0μm-100um

耐溫性= 150°C 在低于120°C的處理溫 耐溫性= 100°C。
度下可在25°C剝離NR5和NR7系列抗蝕劑 NR9系列抗蝕劑具有增強的附著力
在25°C時易于剝離。

Futurrex NR5-8000，4.5：1 AR
抗蝕劑分辨率的示例
膜厚度：54µm
掩模尺寸：12µm線/間隔
曝光劑量：1100 mJ / cm 2。
焦點偏移：-15µm。
曝光工具：Ultratech步進土星
模型，i-line

另有：NR9G g和h線曝光用粘度增強 具有高粘附性適用于電鍍及濕法蝕刻
NR71G g和h線曝光用于干法蝕刻中掩模應用并能作為隔層

邁可諾技術有限公司

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