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當前位置:輔光精密儀器(上海)有限公司>>測試與測量>>探針/示波器>> FPTRI-SMT1-FL3D激光共聚焦形貌顯微鏡

3D激光共聚焦形貌顯微鏡

產品二維碼
參  考  價:¥ 200
具體成交價以合同協議為準
  • 產品型號:FPTRI-SMT1-FL
  • 品牌:
  • 產品類別:探針/示波器
  • 所在地:
  • 信息完整度:
  • 樣本:
  • 更新時間:2023-06-15 20:36:13
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  • 經營模式:其他
  • 商鋪產品:1023條
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產品簡介

3D激光共聚焦形貌顯微鏡是一種高速共焦激光掃描顯微鏡(CLSM),用于可靠的三維測量,從一系列光學剖切圖像中提供目標物體的三維描述,通過該算法,橫截面圖像被直接轉換為三維輪廓數據

詳情介紹

3D激光共聚焦形貌顯微鏡是一種高速共焦激光掃描顯微鏡(CLSM),用于可靠的三維測量,從一系列光學剖切圖像中提供目標物體的三維描述,通過該算法,橫截面圖像被直接轉換為三維輪廓數據。這種的原始截面圖像,直觀地解釋,使表面輪廓數據優于其他光學技術。

3D激光共聚焦形貌顯微鏡特點

  -高分辨率無損光學三維測量

  -實時共焦成像

  -各種光學變焦

  -同時亮場和共焦成像

  -具有精細自動聚焦的自動增益搜索

  -傾斜補償

  -簡易分析模式

  -精密可靠的高速測高

  -通過半透明基板檢查特征

  -無樣品制備

  -寬范圍檢測的圖像拼接

3D激光共聚焦形貌顯微鏡應用

  -半導體:IC圖形,凸點高度,線圈高度,缺陷檢查,CMP工藝

  -FPD產品:觸摸屏檢查,ITO圖案,LCD柱墊高度

  -MEMS器件:結構的三維輪廓,表面粗糙度,MEMS圖形

  -玻璃表面:薄膜太陽能電池,太陽能電池紋理,激光圖案

  -材料研究:模具表面檢查,粗糙度,裂紋分析

3D激光共聚焦形貌顯微鏡測量表面粗糙度

  3D激光共聚焦形貌顯微鏡規格參數

型號顯微鏡NS-3600Remark
物鏡放大倍數10×20×50×100×
觀察/

  測量范圍

水平 (H): μm1400700280140
豎直 (V): μm1050525210105
工作距離: mm17.54.51.01.0
數值孔徑 (N.A.)0.300.451.01.0
觀察/測量的光學系統小孔聚焦光學系統
Height MeasurementMeasuring scan range10 mm
Display resolution0.001 μm
Repeatability σ0.02 μmNote 1
Width measurementDisplay resolution0.001 μm
Repeatability 3σ0.03 μmNote 2
Frame memoryPixel count1024x1024, 1024×768, 1024×384, 1024×192, 1024×96
For confocal image12 bit
For color image8-bit for RGB each
For height measurement16 bit
Frame rateSurface scan20 Hz to 160 Hz
Line scan~8 kHz
Laser beam light source for

  confocal measurement

WavelengthRed laser, 638 nm
Output~2 mW
Laser ClassClass 3b
Laser light-receiving elementPMT (photomultiplier tube)
Light source for optical observationLampLED
Color camera for Optical observationImaging elementColor CCD image sensor
Recording resolution1296x966
Data processing unitDedicated PC
Power supplyPower-supply voltage100 to 240 VAC, 50/60 Hz
Current consumption500 VA max.
WeightMicroscopeApprox. ~50 kg (Measuring head unit : ~12.5 kg)
Controller~8 kg
Vibration isolating systemPneumatic isolator

  Note 1 :

  100 times measurement of standard sample (1μm step height) with 100× / 0.9 objective.

  Note 2 :

  100 times measurement of standard sample (5μm pitch) with 100× / 0.9 objective.

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