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無塵潔凈室主要作用在于控制產品(如硅芯片等)所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度，使產品能在一個良好之環境空間中生產、制造，此空間我們稱之為潔凈室。按照慣例，無塵凈化級別主要是根據每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標準的粒子數量來規定。也就是說所謂無塵并非沒有一點灰塵，而是控制在一個非常微量的單位上。當然這個標準中符合灰塵標準的顆粒相對于我們常見的灰塵已經是小的微乎其微，但是對于光學構造而言，哪怕是一點點的灰塵都會產生非常大的負面影響，所以在光學構造產品的生產上，無塵是必然的要求。

無塵潔凈室每立方米將小于0.3微米粒徑的微塵數量控制在3500個以下，就達到了無塵標準的。芯片級生產加工的無塵標準對于灰塵的要求高于，這樣的高標主要被應用在一些等級較高芯片生產上。0.5uM及以下的微塵數量被嚴格控制在每立方英寸1000個以內，這也就是業內俗稱的1K級別。

無塵潔凈室指對空氣潔凈度、溫度、濕度、壓力、噪聲等參數根據需要進行控制的密閉性較好的空間。根據氣流的流動狀態分類，主要有非單向流潔凈室、單向流潔凈室、矢量潔凈室。按受控粒子的性質劃分。