，700℃,1000℃,1200℃下對納米(TiO2)粉末進行煅燒,利用大氣等離子噴涂(APS)在Q235基體上制備氧化鈦納米結構涂層.運用X射線衍射(XRD),掃描電鏡(SEM)等技術對煅燒后的粉料和涂層的顯微結構,物相組成進行測試,觀察,分析.實驗結果表明:1000℃為的造粒溫度,適合等離子噴涂的粉末顆粒粒徑為30~90μm,流動性較好,著粉率高;涂層物相主要是金紅石型TiO2,涂層與基體的結合強度很高,達30.90MPa,涂層硬度為727.95HV.
隨著我國工業化進程不斷加快,工業排放廢水所引起的水污染問題越來越嚴重,其中,印染行業是工業污水排放大戶,印染廢水排放量大、色度深、有機污染物含量高、水質情況復雜、毒性大,對周圍環境和人體都造成很大的危害,因此,控制和治理印染廢水已迫在眉睫。光催化作為一種新興高效節能現代綠色環保的新技術得到廣泛應用,其中(TiO2)的應用廣泛。本課題以甲基橙作為印染廢水的模擬污染物,通過水熱合成對材料進行摻Si和RGO,提高材料的光催化性能,并采用絲網印刷和熱噴涂方法將TiO2顆粒制備成涂層固定在基體上,TiO2涂層可以實現循環利用,同時也兼具較好的光催化性能。本文首先通過水熱合成的方法,分別制備出不同摻雜量的Si-Ti02粉末和Ti02/RGO復合粉末,有效提高了 TiO2的光催化性能。Si-TiO2粉末在紫外光條件下,具有較好的光催化活性,其中20%Si-TiO2粉末光催化性能,對甲基橙的降解率可以達到98%以上。TiO2/RGO復合粉末在紫外光和可見光條件下,都具有較好的光催化性能,TiO2/RGO(30mL)復合粉末性能,而隨著GO用量的增加,光催化性能則明顯下降。其次,采用絲網印刷工藝制備Ti02基涂層,研究不同印刷層數和熱處理溫度對于涂層微觀結構以及光催化性能的影響。
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