微陣列清洗干燥工作站是為燥微陣列清洗干燥和熒光原位雜交FISH玻片清洗干燥而設計的微陣列干燥清洗儀器,是分子雜交領域的理想自動玻片清洗干燥儀器。
微陣列清洗干燥工作站可以處理市面上任何商用或定制的微陣列和玻片或芯片,用于任何類型的微陣列實驗,如基因表達,微陣列比較基因組雜交 CGH array,ChIP-on-chip,miRNA。
微陣列清洗干燥工作站特色
自動清洗干燥站大大提高了雜交的微陣列的的質量，
具有更高信號強度，
更低的背景噪音和更為均勻干凈的玻片，
直接可用于掃描使用。
從而避免這些步驟常出現的負面影響。
微陣列清洗干燥工作站將芯片放置在儀器的載玻片架上（最多可放20個芯片)。最多可以使用5個溫度控制的清洗器采用理想的預定程序清洗，通車清洗器被覆蓋起來，以便更好的進行溫度控制。自動清洗干燥站WALY 機械臂將載玻片架在不同的洗滌器間轉移，嚴格控制清洗時間和溫度參數，通過一個可調的垂直攪拌器改善清洗功效，在經過個清洗器后，機器臂自動將玻片轉移到其離心機進行有效地干燥。玻片準備好進行掃描。或者，可在一個穩定的溶液中完成干燥：儀器控制玻片在穩定溶液中的移動速度。自動清洗干燥工作站具有多功能控制顯示屏，能夠加載并啟動預先編程的清洗程序。清洗干燥站提供直觀的圖形用戶界面，方便有效的操作程序管理，并可以為用戶定制優化的操作程序，大大提高微陣列和FISH的清洗質量和實驗的可重復性精度和可靠性，幫助用戶節省寶貴的時間和成本，提高微陣列實驗的成功幾率。
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