多陣列雜交工作站是微陣列玻片雜交和多陣列玻片雜交的理想高效雜交儀,具有高效的雜交振蕩系統和的雜交溫度控制系統,是微陣列玻片和多個子陣列（多陣列玻片）雜交成功的有力雜交工作站。
多陣列雜交工作站特色
可以雜交多達4個載玻片。
微陣列玻片受到溫度控制，與載玻片架直接接觸，一起受到的溫度調節控制。
控制溫度的范圍從室溫至105℃，溫度精度高達+/- 0.1℃。集成了軌道振蕩器，提供從300至900rmp的可調轉速控制，有效提高雜交和結合反應成功率。
多陣列雜交工作站采用國際的用戶友好界面，操作方便;用戶可以設置溫度，雜交持續時間和振蕩速度。
溫度，時間和振蕩速度顯示于儀器前方的寬屏顯示屏上，用戶可以在任何時間調整參數。
多陣列雜交工作站特色
Peltier溫度控制技術控制溫度
溫度調節
集成了軌道振蕩系統
前部具有顯示和控制面板
用戶友好的操作界面
多陣列雜交工作站參數
溫度范圍：室溫到105攝氏度
加熱/制冷系統：溫控Peltier技術，溫度分辨率 0.1 °C
振蕩系統：軌道振蕩器速度300-1500RPM可調
用戶界面：高級熒光顯示屏VFD， 8個編程控制操作鍵
尺寸(LxDxH)： 29.5 x 26.5 x 17.0 cm
電力要求： 220 V, 50/60 Hz, 125 W
重量：8.5kg
隔震產品：
顯微鏡載物臺：
顯微鏡培養箱：
顯微鏡相機：
冷熱臺：
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