CPS高精度納米粒度分析儀
CPS高精度納米粒度分析儀有三種型號：DC12000型、 DC18000型 和 DC24000UHR型。CPS納米粒度分析儀是目前世界上分析速度、分辨率以及靈敏度離心沉降式納米粒度分析儀。它可以分析任何粒度分布介于0.005微米和75微米之間的顆粒，提供比其它粒度分析方法好達(dá)10倍的分辨率，最小峰值寬度可小至峰值直徑的2%，UHR型可達(dá)1%。
產(chǎn)品性能
CPS高精度納米粒度分析儀能夠提供高分辨率準(zhǔn)確的分析結(jié)果，即使對于使用其它分析方法非常難分析的樣品，CPS依然能夠提供滿意的分析結(jié)果。
高分辨率
CPS具有強(qiáng)大的分辨率，粒徑差別在2%以內(nèi)的窄峰可以被分辨出來。
下圖所示樣品包含五種不同的聚苯乙烯標(biāo)定顆粒，在圖中可以清楚地看到它們被分辨出來呈現(xiàn)為五個(gè)獨(dú)立的粒度峰。
技術(shù)優(yōu)勢
CPS系統(tǒng)性能的基礎(chǔ)是它*的示差沉降技術(shù)。
高轉(zhuǎn)速：
CPS可以支持的轉(zhuǎn)速為24,000轉(zhuǎn)/分。對于超細(xì)顆粒，其分析速度比其它產(chǎn)品快3倍。使用速度調(diào)節(jié)技術(shù)，可以對粒度分布范圍較廣的樣品進(jìn)行分析。對于在其它分析儀上很多非常耗時(shí)(數(shù)小時(shí)或更長)的樣品，CPS可以快速得到結(jié)果。
高精度標(biāo)定：
CPS系統(tǒng)使用已知的標(biāo)定顆粒進(jìn)行標(biāo)定，與美國國家標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)研究院(NIST)相兼容的標(biāo)準(zhǔn)保證了分析結(jié)果的一致性和精確度。使用內(nèi)標(biāo)法，也即把已知標(biāo)定顆粒與待分析樣品相混合，所得的峰值結(jié)果可以達(dá)到±0.25%的精度。
測量低密度顆粒：
示差沉降法過去一般用于測量密度大于分散介質(zhì)液體密度的顆粒，CPS開發(fā)了一項(xiàng)新的技術(shù)(US Patent5,786,898)。很多用常規(guī)示差沉降法很難或者不可能分析的材料(例如油乳液、蠟乳液、粘性乳液或脂質(zhì)體)，現(xiàn)在可以方便地使用CPS進(jìn)行分析，而且精度很高。
速度調(diào)節(jié)：
CPS開發(fā)了一種特殊的圓盤設(shè)計(jì)使得在分析過程中可以調(diào)節(jié)圓盤的轉(zhuǎn)速，而不會對沉降液體產(chǎn)生擾動(dòng)，轉(zhuǎn)速可以在20倍范圍內(nèi)升高或者降低，這樣一來就使得分析的動(dòng)態(tài)范圍幾乎增大了20倍。一般離心式分析儀的動(dòng)態(tài)范圍為40，但是CPS系統(tǒng)的動(dòng)態(tài)范圍可以超過1000。過去很多需要消耗整夜時(shí)間而且低精度的測量，現(xiàn)在可以使用示差沉降法快速測量，而得到高精度的結(jié)果。
低噪聲光源/檢測頭：
CPS納米粒度分析儀的光學(xué)系統(tǒng)和電路經(jīng)過精心設(shè)計(jì)以降低信號中的噪聲，信噪比通常為50000左右，低噪聲使得系統(tǒng)
具有很高的靈敏度，可檢測窄峰的重量通常小于0.01微克，這使得對于微克樣品的常規(guī)高精度分析變得可行。
CPS系統(tǒng)以合理的價(jià)格提供高精度、高動(dòng)態(tài)范圍和高靈敏度的粒度分析解決方案。
標(biāo) 定
CPS使用的標(biāo)定顆粒都與美國標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)研究院(NIST)的其它標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行過交叉對比，確保均值、峰寬或者半峰寬等方面的誤差在±2%之內(nèi)，而且顆粒的團(tuán)聚性也符合要求。
可選標(biāo)定顆粒：
直徑小于10微米的標(biāo)定顆粒通常以懸液的形式保存在水中，當(dāng)然也可以保存在非水基懸液中。大于10微米可以有三種形態(tài)，水基懸液，非水基懸液或者干粉狀態(tài)。每一套標(biāo)定顆粒都有其粒度分析結(jié)果和分析證書。
應(yīng)用實(shí)例
PEDOT及其復(fù)合材料的粒徑測量
PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導(dǎo)率、高度的環(huán)境穩(wěn)定性、對可見光具有高透過率等特點(diǎn)，廣泛用于光伏、電容器、電致變色、觸摸屏等行業(yè)，用來制作抗靜電涂層、 OLED (有機(jī)電激發(fā)光二極管)、有機(jī)薄膜太陽能電池材料、電極材料、電化學(xué)生物傳感器等。
PEDOT及其復(fù)合材料，比如PEDOT/PSS(聚乙撐二氧噻吩和聚苯乙烯磺酸根陰離子的化學(xué)聚合物)的粒度大小和粒度分布與其導(dǎo)電性能相關(guān)。CPS納米粒度分析儀可以提供準(zhǔn)確穩(wěn)定的測量分析，有助于最終產(chǎn)品導(dǎo)電性能的評價(jià)。
下圖是CPS納米粒度分析儀測定PEDOT/PSS得到的結(jié)果，粒徑為0.022微米(儀器使用轉(zhuǎn)速為24,000轉(zhuǎn)/分鐘)。
CPS納米粒度儀測量金剛石的粒徑
金剛石微粉是指顆粒度細(xì)于36/54微米的金剛石顆粒，金剛石微粉硬度高、耐磨性好。廣泛用于機(jī)械、航天、光學(xué)儀器、玻璃、陶瓷、電子、石油、地質(zhì)、工業(yè)部門，用于制作PCD(聚晶金剛石)、 PDC(金剛石復(fù)合片)、陶瓷結(jié)合劑、金屬結(jié)合劑、電鍍產(chǎn)品；制作拉絲模、電鍍磨具，陶瓷、金屬結(jié)合劑磨具等；制造金剛石樹脂結(jié)合劑彈性磨塊等；用于精密機(jī)械、光學(xué)玻璃、精細(xì)陶瓷、寶石及半導(dǎo)體等產(chǎn)品的研磨拋光。
CPS納米粒度分析儀測量金剛石微粉的粒徑，可提供更精確更穩(wěn)定的測量結(jié)果，有效控制產(chǎn)品的質(zhì)量。
下圖是CPS納米粒度儀測得的兩個(gè)不同粒徑的金剛石樣品的疊加圖，藍(lán)色曲線是粒徑為0.278微米的金剛石，紅色曲線是粒徑為0.436微米的金剛石。
粒度分布分析
常被用作顏料、防曬霜和增稠劑。因此它有著廣泛的應(yīng)用，從油漆到食用色素到化妝品和護(hù)膚品，因此的粒徑測量十分重要。例如納米顆粒可以用于防曬乳液，因?yàn)樗鼈兩⑸涞目梢姽獗扔糜谄胀ㄍ苛匣蛘哳伭现械念w粒小，同時(shí)還能提供紫外線保護(hù)。
CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征
隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達(dá)到納米級。CMP工藝作為芯片制造業(yè)的一個(gè)部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的解決方案。
磨料對CMP工藝起著至關(guān)重要的作用！
歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您解決磨料顆粒問題
測量高純氧化鋁粉
一般來說，含量大于99%的氧化鋁稱為高純氧化鋁，其特性有耐化學(xué)腐蝕、耐高溫(正常使用在1600℃，短期1800℃)、耐驟冷驟熱、密度高等。 99.995%高純氧化鋁粉主要用于LED人造藍(lán)寶石晶體、高級陶瓷、PDP熒光粉及其他高性能材料；99.99%高純氧化鋁粉用于高壓鈉燈、新型發(fā)光材料、特殊陶瓷、高級涂層、三基色、催化劑及其他高性能材料。
粒度是高純氧化鋁粉產(chǎn)品的重要指標(biāo)，CPS納米粒度分析儀能給您帶來精準(zhǔn)穩(wěn)定的測量結(jié)果!
下圖是使用CPS分析儀平行測定3次高純氧化鋁粉得到的疊加圖，表明儀器的重復(fù)性，樣品的粒徑為0.586微米。
分析氧化鋁粉末時(shí)，為防止樣品發(fā)生凝聚，需要添加入少量的乙酸。
氧化鋅ZnO粉末
氧化鋅俗稱鋅白，是鋅的一種氧化物。氧化鋅是一種常用的化學(xué)添加劑，廣泛地應(yīng)用于塑料、硅酸鹽制品、合成橡膠、潤滑油、油漆涂料、藥膏、粘合劑、食品、電池、阻燃劑等產(chǎn)品的制作中。氧化鋅的能帶隙和激子束縛能較大，透明度高，有優(yōu)異的常溫發(fā)光性能，在半導(dǎo)體領(lǐng)域的液晶顯示器、薄膜晶體管、發(fā)光二極管等產(chǎn)品中均有應(yīng)用。氧化鋅粉末還用于制作口腔用品，如牙膏、牙凝膠、牙粉等。
粒度仍然是評價(jià)氧化鋅粉末的重要指標(biāo)！
CPS納米粒度分析儀是您的！
下圖是CPS納米粒度儀測得的氧化鋅粉末的粒徑分布結(jié)果，平均粒徑為0.541微米儀器使用轉(zhuǎn)速為12,000轉(zhuǎn)/分
病毒顆粒的粒徑分布及疫苗的研發(fā)
病毒顆粒的團(tuán)聚和聚集對病毒治療的臨床安全性和療效有重要影響。可以應(yīng)用于病毒載體制劑，并且病毒顆粒大小和病毒聚集對基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有著巨大的影響此款設(shè)備在有關(guān)工藝優(yōu)化和產(chǎn)品質(zhì)量等重要問題上有重要的參考價(jià)值。
CPS納米粒度分析儀可以直觀準(zhǔn)確的表征病毒顆粒的團(tuán)聚情況
上圖是CPS納米粒度分析儀測定不同處理方式下病毒顆粒的團(tuán)聚情況的結(jié)果，儀器使用轉(zhuǎn)速為24,000轉(zhuǎn)/分可以明顯看到病毒顆粒是否發(fā)生團(tuán)聚現(xiàn)象，儀器分辨率很好
CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時(shí)間，以及病毒顆粒的團(tuán)聚情況峰值清晰可見，為疫苗的研發(fā)生產(chǎn)提供全新的解決方案
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