等離子噴涂技術(shù)是二十世紀(jì)五十年代開發(fā)出來的一種表面處理工藝。等離子噴涂設(shè)備及工藝。是采用等離子弧發(fā)生器(噴槍)將通入噴嘴內(nèi)的氣體(常用Ar、N和H等氣體)加熱和電離，形成高溫高速等離子射流，熔化和霧化金屬或非金屬物料，并使其以高速噴射到經(jīng)預(yù)處理的工件表面上形成涂層的方法
等離子噴涂工藝特點(diǎn)：
1) 熱源溫度高（17000K），適用于難熔材料的噴涂
2) 等離子射流速度大，可高達(dá)幾十至幾百米／秒，因此涂層與基體具有較高的結(jié)合強(qiáng)度，而且涂層較為致密
3) 噴涂過程中對基體的熱影響較小，可以對已成型的工件進(jìn)行表面噴涂
4) 噴涂工藝規(guī)程穩(wěn)定，操作比較簡便，噴涂效率較高
目前，等離子噴涂技術(shù)用于制備熱障涂層的陶瓷面層和金屬過渡層。按噴涂環(huán)境不同而分類的等離子噴涂有以下幾種工藝：大氣等離子噴涂(APS)，保護(hù)氣氛(氬氣)等離子噴涂(ASPS)，低壓(LPPS)或真空等離子噴涂(VPS)。
大氣等離子噴涂法是應(yīng)用*為廣泛的常規(guī)噴涂方法，具有操作方便，生產(chǎn)效率高的特點(diǎn)，但涂層質(zhì)量高而且涂層致密度和結(jié)合強(qiáng)度高。
真空等離子噴涂法由于從根本上克服了等離子射流同環(huán)境氣氛的相互作用，因此可獲得與原始噴涂材料成分一致的純凈涂層，而且等離子射流速度快(240~610m／s)，由此形成的涂層致密，結(jié)合強(qiáng)度與APS涂層相比較高。通常，MCrAlY粘結(jié)層采用LPPS或VPS工藝制備，而YSZ陶瓷層的制備則采用APS方法。
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