等離子清洗機的功能及特征
等離子清洗機是一種利用等離子達到傳統清洗方法無法達到的效果的高科技新技術。等離子體是物質的一種狀態，也稱為物質的第四態。對氣體施加足夠的能量以將其電離并將其變成等離子體狀態。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團、激發態核素（亞穩態）、光子等。等離子清洗機利用這些活性成分的特性對樣品表面進行處理，達到清洗等目的。
等離子清洗機中的等離子清洗裝置將兩個電極置于密封容器內形成電場，利用真空泵達到一定的真空度。隨著氣體越來越稀薄，分子距離和分子或離子的自由運動距離越來越長。在正負電場的作用下，它們碰撞形成等離子體。這些離子具有足夠高的活性和能量，可以破壞幾乎所有的化學鍵并在任何暴露的表面上引起化學反應。不同的氣體等離子體具有不同的化學性質。例如，氧等離子體具有很高的氧化性能，可以氧化光刻膠產生氣體，從而達到清潔的效果。腐蝕性氣體等離子體具有良好的各向異性，能滿足蝕刻的需要。等離子處理時會發出輝光，故稱為輝光放電處理。
等離子清洗機主要依靠等離子中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。就反應機理而言，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發成等離子體狀態；氣相物質吸附在固體表面；吸附的基團與固體表面分子反應生成產物分子；分析產物分子以形成氣相；反應殘留物與表面分離。等離子清洗機的特點是它可以處理金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、環氧樹脂甚至聚四氟乙烯，無論被處理的是什么類型的基材。它還可以清潔整體、局部和復雜的結構。
等離子清洗機的等離子清洗可以獨立于處理對象進行。它可以處理多種材料，無論是金屬、半導體、氧化物還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂等聚合物）都可以進行等離子處理。因此，它特別適用于不耐熱和不耐溶劑的材料。你也可以選擇局部清潔材料的全部、部分或復雜結構。當清潔和去污完成后，可以改善材料本身的表面性能。例如，提高表面潤濕性和提高薄膜附著力在許多應用中都非常重要。
