石墨烯具有高導電性、高韌度、高強度、超大比表面積等特點，在電子、航天工業、新能源、新材 料等領 域有廣泛應用。對石墨烯層數測量方法的研究有助于深入理解石墨烯性能與微觀結構之間的關系。
通過拉曼光譜、原子力顯微鏡和透射電鏡等測量石墨烯層數的方法，這種測量方法有他的優點也有一些局限性。
使用光學顯微鏡可以快速簡便地表征石墨烯的層數。在有一定厚度氧化硅層的硅襯底上，當氧化層厚度滿足一定條件時，由于光路衍射和干涉效應而引起顏色變化，石墨烯會顯示出*的顏色和對比度差異從而分辨出石墨烯的層數。如圖 f所示，不同層數的石墨烯在光學顯微鏡下顯示出不同的 顏色和對比度
經過大量的研究，光學顯微術已經成為一種相對成熟的測量石墨烯層數的技術手段。然而，這些研究通常是基于含氧化硅層的硅襯底。盡管利用窄帶濾光片可以使得石墨烯可以在任意厚度的氧化硅層上被觀測到，甚至可以在其他薄膜襯底如氮化硅(Si 3 N 4 )和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜上被觀測到。但是，光學顯微術于這些與石墨烯對比度差異明顯的襯底，無法用于測量與石墨烯對比度不明顯的襯底如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜等上的 Gr 層數。
