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ASML研發:高數值孔徑極紫外光刻設計基本完成

2022年08月06日 16:15:14      來源:快科技      閱讀量:127評論

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導讀:對于阿斯麥(ASML)來說,他們正在研發更*的光刻機,這也是推動芯片工藝繼續前行的重要動力。

  對于阿斯麥(ASML)來說,他們正在研發更*的光刻機,這也是推動芯片工藝繼續前行的重要動力。
 
  ASML是目前能制造極紫外光刻機的廠商,其在推出TWINSCAN NXE:3400B和NXE:3400C這兩款極紫外光刻機之后,還在研發更*、效率更高的極紫外光刻機。
 
  從外媒的報道來看,除了NXE:3600D,阿斯麥還在研發高數值孔徑的極紫外光刻機NXE:5000系列,設計已經基本完成。
 
  外媒在報道中也表示,雖然阿斯麥NXE:5000高數值孔徑極紫外光刻機的設計已基本完成,但商用還需時日,預計在2022年開始商用。
 
  作為一款高數值孔徑的極紫外光刻機,NXE:5000系列的數值孔徑,將提高到0.55,阿斯麥目前已推出的TWINSCAN NXE:3400B和NXE:3400C這兩款極紫外光刻機,數值孔徑為0.33。
 
  在不久前舉辦的線上活動中,歐洲微電子研究中心IMEC*執行官兼總裁Luc Van den hove在線上演講中表示,在與ASML公司的合作下,更加*的光刻機已經取得了進展。
 
  Luc Van den hove表示,IMEC的目標是將下一代高分辨率EUV光刻技術高NA EUV光刻技術商業化。由于此前得光刻機競爭對手早已經陸續退出市場,目前ASML把握著主要的*光刻機產能,近年來,IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機,目前目標是將工藝規模縮小到1nm及以下。
 
  原標題:ASML研發更*光刻機:高數值孔徑極紫外光刻設計基本完成
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