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ADEV激光分析儀 AtLAS-900 HCL

AtLAS-900 HCL激光分析儀，采用的可調諧半導體激光吸收光譜技術（TDLAS），是當代氣體測量技術的。該技術通過快速調制激光頻率，使其掃過被測氣體（）的吸收譜線，并運用鎖相放大技術測量透射譜線中的諧波分量，從而**分析氣體的吸收情況。基于朗伯-比爾（Lambert-Beer）定律，半導體激光穿過被測氣體時，光強的衰減與被測組分濃度成正比，實現了對氣體濃度的精準測量。

應用領域：

AtLAS-900 HCL分析儀廣泛應用于化工園區、鋁廠、磚廠、水泥廠、玻璃廠、垃圾焚燒等工業領域，用于實時監測生產工藝中產生的，確保生產**與環保達標。

ADEV激光分析儀 AtLAS-900 HCL儀器特點：

1. 高溫全程伴熱抽?。汉筋^、伴熱管線和測量池，有效避免粉塵和水蒸汽的干擾，同時防止HCl和HF溶于水形成強酸腐蝕管路。
2. 在位安裝：距離探頭僅1-2米，減少管道對HCl和HF氣體的吸附，確保測量結果的準確性。
3. 檢測技術：結合“TDLAS氣體分析技術+懷特池"，實現在線HCl和HF的高精度分析，檢測下限低至0.1ppm。
4. 壓縮空氣射流采樣：無運動部件，高可靠性；支持4-20mA和485信號輸出，功能強大。
5. 其他**特性：選擇性連續實時測量、低檢測限、低吸收效應、無需校準、幾乎免維護、無冷凝物形成、無耗材操作、快速反應、無交叉敏感性、光譜相關性檢查、適用于植物控制、壽命長、耐化學腐蝕、長期信號穩定性。

ADEV激光分析儀 AtLAS-900 HCL技術參數：

• 量程：0-100/1000ppm（更低量程可定制）
• 檢測下限：0.1ppm
• 零點漂移：+/-1%F.S./7d
• 量程漂移：+/-1%F.S./7d
• 響應時間：<10秒
• 模擬輸出：4路4-20mA隔離輸出，500Ω負載
• 信號輸出：RS485
• 環境溫度：-10～+55°C
• 防護等級：IP66

ADEV激光分析儀 AtLAS-900 HCL，以良好的性能和廣泛的應用領域，成為工業氣體監測領域的。

更多ADEV激光分析儀 AtLAS-900 HCL信息請直接致電埃登威上海公司