UV光解除臭設(shè)備產(chǎn)品特點(diǎn)
1.凈化效率高，性能穩(wěn)定。
2.設(shè)備風(fēng)阻低≤300Pa，無需加人抽風(fēng)設(shè)備，投資低
3.運(yùn)行成本低，耗電小。
4.維護(hù)保養(yǎng)簡便，費(fèi)用低，每使用90天為保養(yǎng)清洗期。
UV光解除臭設(shè)備生產(chǎn)廠家無需活性炭材料，不存在飽和脫附再生原料，無二次污染。
優(yōu)質(zhì)進(jìn)口材料制造：
防火、防爆、防腐蝕性能高，設(shè)備性能安全穩(wěn)定，采用不銹鋼材質(zhì)，設(shè)備使用壽命在十五年以上。
UV光解除臭設(shè)備生產(chǎn)廠家作用
1.高效清除廢氣：
該設(shè)備能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、苯類、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高可達(dá)99%以上，脫臭效果大大超過國家2001年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）。
2.無需添加任何物質(zhì)：
只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使氣體通過本設(shè)備進(jìn)行分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
3.適應(yīng)性強(qiáng)：
可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同氣體物質(zhì)的凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
4.運(yùn)行成本低：
本設(shè)備無任何機(jī)械動(dòng)作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，設(shè)備風(fēng)阻極低＜50pa，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
5.無需預(yù)處理：
氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在2-13之間均可正常工作。
UV光解除臭設(shè)備生產(chǎn)廠家適用范圍
主要運(yùn)用于化工業(yè)、造紙也、制藥業(yè)、食品業(yè)、輪胎及橡膠生產(chǎn)廠、汽車生產(chǎn)、油漆噴涂、污水處理、污泥廢氣處理、垃圾處理廢氣、皮革業(yè)、印刷廠、香料生產(chǎn)業(yè)、飼料及飼養(yǎng)場、農(nóng)用藥生產(chǎn)以及煙草業(yè)等等多個(gè)領(lǐng)域的異味和惡臭處理。
涉及氣體物質(zhì)多達(dá)900多種，主要包括：硫化氫、氨氮類、硫醇類、硫醚類、吲哚類、苯類、硝基類、烴類以及醛類等類別。
UV光解除臭設(shè)備生產(chǎn)廠家原理
過程一：高能電子的直接轟擊
過程二：O原子或臭氧的氧化 O2+e→2O-
過程三：OH自由基的氧化 H2O+e→OH+H H2O+O→2OH H+O2→OH+O
過程四：分子碎片+氧氣的反應(yīng)
低溫等離子廢氣處理設(shè)備技術(shù)優(yōu)勢：
1.介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生電子能量高，低溫等離子體密度大，可達(dá)到常用等離子技術(shù)(電暈放電)的1500倍，幾乎可以擊碎所有有機(jī)廢氣的分子鏈。
2.技術(shù)反應(yīng)速度快，氣體通過反應(yīng)區(qū)的流速達(dá)到3-15米/秒，也可達(dá)到很好的處理效果。
3、安全可靠，設(shè)備采用敞開式排放形式，不設(shè)封閉高壓，高溫區(qū)。
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